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真空仪器

电子束蒸发源

Cas号:无     货号:PM26208

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1套 50000 1 -      +

电子束蒸发源,是使用高能电子束轰击靶材,使材料受热蒸发,从而产成原子/分子束流,蒸镀到衬底上的一种镀源。

由于使用高能电子束轰击,受热集中,因而可以蒸镀各种难熔材料。根据具体的需求,可以选择使用直径2-6mm的柱

状材料,也可以选用不同材料的坩埚。集成的束流控制,允许最精确的生长监控。

主要参数:

真空中长度:        200mm(典型值,可根据需要调整)

真空中直径:        34mmmax

安装法兰:             DN40CF2.75”OD

烘烤温度:             200℃(max

蒸发温度:             200-2300(与电源功率相关,使用坩埚时最高温度会比使用棒材低一些)

蒸发棒直径:        2-6mm

靶材移动距离:    25mm

最大功率:             150W2000V75mA,可选用功率更高的电源)

灯丝电流:             典型值1.8-2.2A,最大2.7A

工作气压:             超高真空(典型值2x10-10mbar

标准配件:             手动挡板

束流监控

热电偶(用于监控水冷罩温度)

线性位移器(调整靶材与灯丝直接距离,使用坩埚时可以不用)

选配部件:             WMo,坩埚

                                   去离子部件

 

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